CRC Industries Iberia, S.A. C/Gremio del Cuero, s/n – Polígono Industrial Hontoria E-40195 SEGOVIA - España Tel  (34) 921 427 546 Fax (34) 921 436 270 Hoja de Datos Técnicos KONTAKT CHEMIE Positiv 20 Página 1/5 Barniz fotoresistente KONTAKT CHEMIE Positiv 20 Descripción: Líquido fotoresistente en base 0-Naphtho-chinon-diazide / Novolack   Propiedades generales y aplicaciones: KONTAKT  CHEMIE  Positiv  20  es  un  líquido  fotoresistente  para  una  amplia  variedad  de aplicaciones.  El  producto  puede  ser  aplicado  allí  donde  se  requiera  reproducir  modelos directamente sobre materiales de trabajo para procesos de grabado químico, electroplastia, etc.  Las  típicas  aplicaciones  son  las  de  la  producción  de  tarjetas  de  circuitos  impresos, procesos fotolitográficos en metales, cristal y materiales sintéticos.   El barniz debe mantenerse lo más alejado posible de los rayos ultravioletas (UVA). El barniza debe aplicarse  con  luz  amarilla.  Se  aconseja  oscurecer  las  ventanas  con  Plexiglass  (e.g. Röhm Darmstadt, Type Yellow 303).  KONTAKT CHEMIE Positiv 20 es resistente a agentes oxidantes,  desde  amoniacos  hasta  ácidos  fuertes.  Las  capas  antiguas  del  barniz  pueden eliminarse mediante disolventes o aguas alcalinas.   Datos técnicos Propiedades Color                                                                                     azul, transparente Aerosol Punto de inflamación <0°C Densidad a 20°C FEA 605 0.780 g/cm³ Cubrición para espesor de 8 µm calculado 1 m² / 200 ml spray Granel Punto de inflamación ASTM D 56 <0°C Densidad ASTM D 891 (C) 0.871 g/cm³ Cubrición para  8 µm calculado 8.4 m²/l

CRC Industries Iberia, S.A. C/Gremio del Cuero, s/n – Polígono Industrial Hontoria E-40195 SEGOVIA - España Tel  (34) 921 427 546 Fax (34) 921 436 270 KONTAKT CHEMIE Positiv 20 Página 2/5 Propiedades del barniz protector Máximo espectro de fotosensibilidad UVA,   340 nm to 420 nm Espesor recomendado 6 µm a 8µm 20°C 24 h Tiempo de secado 70°C Se  recomienda  secador  de aire. Tener cuidado.   15 min Revelado Con  la  luz  y  el  espesor  de película adecuados. Tiempo de revelado apróx. 1 minuto a Tª ambiente.   7 gr. de NaOH en 1 l. de agua Tª ambiente Disolvente : Acetona, Methyl-ethyl-ketone Butyl acetato Grabado químico 20°C to 50°C.   Debe ponerse atención con soluciones alcalinas de alta concentración! Agua alcalina: NaOH, 50 g/l a 300 g/l en agua Componentes recomendados para grabado químico Cobre, estaño Tª de grabado, 40°C Agitación del baño con aire Fe(III)Cl(35-40%) 400 g/l en agua Aluminio Tª ambiente Fe(III)Cl (35-40%) 200 g/l en agua Acero, zinc Cumplir     las     normas     de seguridad!   Solo   debe   ser aplicado por especialistas HCl (10%) Plata Tª de grabado, 60°C. Cumplir las normas de seguridad!    Solo  debe  ser aplicado   por   especialistas! Secado  del  barniz:  20  min, 160°C a 190°C HNO3 (65%) Cristal Tª    ambiente,    Cumplir    las normas  de  seguridad!  Solo debe ser aplicado por especialistas! Acido fluorhídrico 40% Baños químicos Comprobar la resistencia al barniz.  Si no hay suficiente adherencia,  secar  el  barniz (20 min 120°C) desde    amoniaco    hasta ácidos fuertes    Almacenaje de materiales   Resistencia al calor y la luz 4 semanas a 25°C Máximi tiempo de almacenamiento de KONTAKT CHEMIE Positiv 20 almacenar en contenedores resistentes  al  calor  y  la  luz (botellas opacas) 1,5 años a max. 25°C

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CRC Industries Iberia, S.A. C/Gremio del Cuero, s/n – Polígono Industrial Hontoria E-40195 SEGOVIA - España Tel  (34) 921 427 546 Fax (34) 921 436 270 KONTAKT CHEMIE Positiv 20 Página 3/5 Preparación de la superficie: La  superficie  a  ser  tratada,  debe  estar  libre  de  grasa  y  óxido.  Utilizar  disolventes  solo  paa eliminar suciedad reseca o aceites. En el resto de los casos, es mejor utilizar limpiadores base  agua.  Cuando  se  realice  una  preparación  manual,  se  recomienda  pasta  abrasiva corriente.  Para  asegurar  ésto,  limpiar  bien  con  un  buen  detergente  (Vim,  ATA  o  similar). Frotar con un paño húmedo hasta que la superficie de cobre brille, se elimine todo resto de óxido y haga que la capa de cobre se pueda mojar. Esto puede comprobarse, colocando la placa debajo de un grifo y comprobar que no existen zonas que repelan el agua. Después de frotar bien, secar entre dos láminas de papel absorbente teniendo mucha precaución de no dejar huellas dactilares. Para piezas de gran tamaño, utilizar esponjas tipo 3M Scotch Brite, y aclarar  con  agua  limpia.  Los  cristales  se  pueden  limpiar  con  los  típicos  limpiacristales  y aclara con agua limpia.   Aplicación de la capa de Positiv 20: Mediante pulverización: El modo más fácil de aplicar el producto, en series cortas, en mediante el aerosol. De este modo, no hay riesgo de que el producto almacenado se contamine de suciedad.   En caso de componentes de mayor tamaño, puede utilizarse el producto en envase de 1 litro, utilizando  los  típicos  pulverizadores  de  pistola.  El  diámetro  de  la  boquilla,  la  distancia  de pulverización   y   la   presión   del   spray   deben   determinarse   mediante   ensayos.   El   aire comprimido debe estar libre de aceite y polvo.  Cerrar el bidón inmediatamente después de utilizar el barniz.   Mediante inmersión: Este  tipo  de  aplicación  solo  se  recomienda  para  casos  excepcionales,  debido  a  que  debe mantenerse suficientemente limpia la cuba con el producto. Esto supone un costo importante en  tiempo y esfuerzo. La velocidad de copia es apróx. de  1cm/s a 3 cm/s. Para circuitos impresos  de  doble  cara  o  superficies  en  3  dimensiones,  no  es  adecuada  la  aplicación mediante inmersión.   La viscosidad debe comprobarse constantemente. Se aconseja utilizar una copa abierta de viscosidad de 3 mm, de acuerdo a ISO 2431. Si el tiempo de caudal es mayor (por encima de  10%)  que  el  tiempo  tomado  con  el  nuevo  barniz,  debe  añadirse  algún  diluyente  en pequeñas cantidades. Se aconseja Diluyente de KONTAKT CHEMIE o Acetona. En baños de gran tamaño, debe filtrarse el barniz regularmente, ej: filtros de 10µm. Para  los  contenedores  se  recomiendan  materiales  como  cristal,  aceros  de  grado  alto  o politetrafluoretileno.   Para   los   limpiadores   se   puede   utilizar   gomas   de   butilo,   pero   se recomienda comprobar la resistencia de éstos. No utilizar Viton o EPDM. Mediante centrifugado: Pueden utilizarse centrifugadoras comerciales. Se debe continuar con el proceso hasta que el barniz esté seco.

CRC Industries Iberia, S.A. C/Gremio del Cuero, s/n – Polígono Industrial Hontoria E-40195 SEGOVIA - España Tel  (34) 921 427 546 Fax (34) 921 436 270 KONTAKT CHEMIE Positiv 20 Página 4/5 Secado: Después de la aplicación del recubrimiento, las placas deben secarse inmediatamente en la oscuridad. Si fuera necesario, el barniz puede secarse a Tª ambiente, lo cual le llevará por lo menos,   24   horas.   Esto   le   proporciona   solo   calidad   en   trabajos   sencillos.  Si  la  Tª  es demasiado  baja,  la  fuerza  de  adhesión  del  barniz  se  reducirá  y  habrá  un  alto  riesgo  de contaminación  por  suciedad.  Es  conveniente  y  más  seguro  acelerar  el  secado  en  una cámara de secado con control termoestático. Si se usa un horno eléctrico, debe asegurarse de que todas las puertas estén cerradas y que no exista ninguna fuente de luz. Aumentar laTª suavemente hasta máximo 70 ºC y secar a esta Tª durante 20 minutos.   Precaución: cualquier Tª de secado que exceda de 70 ºC puede dañar la  placa. Si se dan problemas con el revelado, es aconsejable revisar y medir la Tª del horno. Exposición: El  tiempo  requerido  para  la  exposición  depende  tanto  del  espesor  del  barniz  como  de  la intensidad de la fuente de luz. La sensibilidad a la radiación UV de Positiv 20 está entre un rango  de  longitud  de  onda  de  360  y  410  nm.  Se  aconseja  utilizar  lámparas  de  vapor  de mercurio  o  hierro.  Para  pequeñas  áreas  (apróx.  30x30  cm²) se aconseja utilizar lámparas OSRAM Vitalux.   Si  se  elige  el  espesor  de  capa  correcto    (  de  6µm  a  8µm)  el  tiempo  de revelado   será   apróx.   de   60   segundos.   Para  zonas  mayores,  se  puede  utilizar,  por  ej, quemadores  de  acero  5kW  tipo  MO  61  Fa.  Sylviana.  Si el poder de exposición es de 100 mJ/cm² , el tiempo de exposición será apróx. de 10 segundos para un espesor de película de 8µm. Revelado:   No   puede   realizarse   el   revelado   con   luz   directa,   luz   tenue   o   la   oscuridad   son   más adecuados. Para realizar el revelado, añadir 7 gr. de NaOH en 1 litro de agua. El revelado se realiza  Tª  ambiente.  Después de un máximo de 2 minutos, la imagen de los circuitos debe estar  totalmente  revelada.  Si  no  es  asi,  la  placa  no  ha  sido  expuesta  el  tiempo  suficiente. Normalmente, la sección expuesta  a la película fotoresistente se elimina en el revelado, el cobre  original se ve claramente. Los trazados de los circuitos se reflejan en diferente color comparando con el cobre. No dejar la placa durante mucho tiempo dentro del revelador, ya que  puede  atacar  las  partes  de  la  protección  fotoresistentes  no  expuestas.  En  casos de sobreexposición  y  si  la  tinta  no  está  totalmente  opaca,  la  imagen  del  circuito  aparecerá durante  un  corto  periodo  de  tiempo  pero  se  irá  borrando  por  acción  del  revelador.  Es importante  ayudar  al  proceso  de  revelado  mediante  agitación  o  mojando  con  un  paño de celulosa.  No  es  aconsejable  utilizar  aire,  puesto  que  Hidróxido  de  Sodio  podría  reaccionar rápidamente   con   el   Dióxido   de   Carbono   del   aire.   Por   este   motivo,   el   revelador   debe guardarse en contenedores cerrados después de utilizarlos. Después del revelado, aclarar las placas con agua fría (presión de lavado de 1.0 bar a 1.5 bar). Si no se va a continuar con el trabajo, las placas deben secarse inmediatamente. La clave de un grabado perfecto es un revelado  completo  sin  marcas.  Con  un  grabado  químico  con  Cobre,  puede  saberse  si  el revelado ha resultado correcto, ya que la superficie clara y brillante se vuelve inmediatamente en oscura mate.

CRC Industries Iberia, S.A. C/Gremio del Cuero, s/n – Polígono Industrial Hontoria E-40195 SEGOVIA - España Tel  (34) 921 427 546 Fax (34) 921 436 270 KONTAKT CHEMIE Positiv 20 Página 5/5 Grabado:   El barniz fotoresistente Positiv 20 es resistente a baños ácidos de cloruro férrico, persulfato de amoniaco, ácido de Cromo y ácido fluorhídrico. Los dos últimos se utilizan en el grabado químico de placas de vidrio por el procedimiento habitual. En el grabado químico de placas de cobre, recomendamos un baño de cloruro férrico a apróx. 45 ºC, con una densidad de 35- 40 %. Para  materiales  que  son  difíciles  de  grabar,  el  poder  de  adhesión  del  barniz  puede  ser mejorado con calor después del revelado. Son posibles Tª de 120 ºC a 190 ºC. Sín embargo, debe tenerse cuidado ya  que a altas Tª el barniz es más difícil de eliminar. Por encima de 120 ºC se puede trabajar con una solución del 30% de Sodio, a la cual se le añade, por ej., un 10%  de  Metilenoketona.  Los  barnices  secados  a  muy  alta  Tª,  solo  pueden  eliminarse mecanicamente (cepillos metálicos, etc.). Es posible aprovechar este efecto para transferir gráficos  o  inscripciones  resistentes,  sobre  materiales  resistentes  a  temperatura.  En  este caso, el barniz se vuelve marrón oscuro.   Eliminación del barniz Cuando  se  trabajen  pequeñas  cantidades,  el  barniz  puede  eliminarse  con  un  paño  con acetona. Para series grandes, se utiliza una solución de 50g/l a 300g/l de NaOH en agua. Para mantener el nivel de agua, puede añadirse el revelador utilizado.   Las soluciones de revelador usado puede manipularse del siguiente modo: Acidar  con  ácido  clorhídrico  con  un  pH  de  3.  La  mayor  parte  del  material  orgánico  se eliminará. Dejarlo reposar toda una noche y a continuación destilar la solución. Añadir NaOH hasta  que  el  pH  de  la  solución  separada  alcance  entre  6.5  y  9.  De  todos  modos,  deben cumplirse las normas los organismos locales de aguas. Desechar los residuos orgánicos, como  restos  de  laca  (según  clasificación  55503  para  residuos  de  pintura  y  barnices). Procedase  con  cuidado  cuando  se  neutralice  la  solución.   En  función  de  los  niveles  de concentración, puede alcanzar mucha Tª.   Seguridad: Evitar  el  contacto  de  la  piel  con  solución  del  barniz,  revelador  y  baño  químico.  El  ácido clorhídrico solo debe ser utilizado como agente químico en casos excepcionales debido a su vapor  altamente  corrosivo.  Ataca  rápidamente  el  equipo  metálico.  El    ácido  fluorhídrico utilizado  en  los  baños  de  cristal  es  muy  peligroso.  Solo  debe  ser  utilizado  por  personal especializado. Es esencial llevar ropa de protección, guantes de goma y gafas de seguridad. La  zona  de  trabajo  debe  tener  una  buena  ventilación.  La  zona  de  secado  y  la  instalación deben ser adecuadas para utilizar líquidos clasificados como VbF B.   Envasado Aerosol : 100ml, 200 ml Granel :   1 l Estos valores no deben utilizarse como especificaciones. Esta información está basada en experiencias fiables. Es responsabilidad del usuario el determinar la idoneidad del producto.